[发明专利]双台面直写光刻设备的控制方法、下位机和直写光刻设备在审
| 申请号： | 202211499842.7 | 申请日： | 2022-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN116300323A | 公开（公告）日： | 2023-06-23 |
| 发明（设计）人： | 周安萌;邵德洋;谢卫传 | 申请（专利权）人： | 合肥芯碁微电子装备股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京景闻知识产权代理有限公司 11742 | 代理人： | 王雪兰 |
| 地址： | 230088 安徽省*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种双台面直写光刻设备的控制方法、下位机和直写光刻设备，其中，双台面直写光刻设备的控制方法，包括：在对第一台面上的基板进行曝光处理时，获取第二台面上的基板的曝光数据并进行存储；以及在对第二台面上的基板进行曝光处理时，获取第一台面上的基板的曝光数据并进行存储。本发明的双台面直写光刻设备的控制方法，能够减少曝光前发送等待时间，提高效率和提高生产线路板的产能。 | ||
| 搜索关键词： | 台面 光刻 设备 控制 方法 下位 | ||
【主权项】：
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