[发明专利]适于清洗研磨垫沟槽内废弃物的腔室结构及清洗方法在审
| 申请号： | 202211487486.7 | 申请日： | 2022-11-21 |
| 公开（公告）号： | CN116000816A | 公开（公告）日： | 2023-04-25 |
| 发明（设计）人： | 司马超;尹影;张康;庞浩 | 申请（专利权）人： | 北京晶亦精微科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B53/017 | 分类号： | B24B53/017 |
| 代理公司： | 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 | 代理人： | 陈丕光 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种适于清洗研磨垫沟槽内废弃物的腔室结构及清洗方法，腔室结构的内部设有相互独立设置的清洗腔和真空吸附腔，腔室结构的外壁设有与清洗腔连通的清洗腔接口和与真空吸附腔连通的真空吸附接口，清洗腔接口适于连接清洗装置以供清洗介质进入清洗腔内，真空吸附接口适于连接真空吸附装置以便进入真空吸附腔内的带有废弃物的清洗介质被向外吸出，腔室结构的底部还设有下凹腔，下凹腔的底部开口适于被研磨垫上表面密封；腔室结构的内部还设有连通下凹腔和清洗腔的清洗孔、以及连通下凹腔和真空吸附腔的真空吸附孔。可将研磨垫上表面上的沟槽内的废弃物经分解清洗并吸附出研磨垫上表面。 | ||
| 搜索关键词： | 适于 清洗 研磨 沟槽 废弃物 结构 方法 | ||
【主权项】：
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