[发明专利]一种三维荧光光谱中散射干扰的评估校正方法及装置在审
| 申请号： | 202211436069.X | 申请日： | 2022-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN115855896A | 公开（公告）日： | 2023-03-28 |
| 发明（设计）人： | 王晓萍;伍卓慧;李学勤;黄冰佳 | 申请（专利权）人： | 浙江大学 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 杭州天勤知识产权代理有限公司 33224 | 代理人： | 高燕 |
| 地址： | 310058 浙江*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种三维荧光光谱中散射干扰的评估校正方法，包括：步骤1、获取样本及样本溶剂的三维荧光光谱；步骤2、将样本的三维荧光光谱减去样本溶剂的三维荧光光谱，获得消除拉曼散射和背景干扰后的三维荧光光谱EEM‑1；步骤3、提取步骤2中三维荧光光谱EEM‑1的瑞利散射荧光强度与对应的样本荧光强度，并基于所述瑞利散射荧光强度与对应的样本荧光强度进行散射干扰的重叠等级评估；步骤4、根据步骤3的重叠等级评估结果，对三维荧光光谱EEM‑1的散射区域进行数据处理，获得无散射干扰的三维荧光光谱EEM‑2。本发明还提供了一种评估校正装置。本发明提供的方法可以有效的消除瑞利散射干扰，从而获得高质量的三维荧光光谱用于后续的实验分析。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 三维 荧光 光谱 散射 干扰 评估 校正 方法 装置 | ||
【主权项】：
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