[发明专利]一种液相外延YIG晶体生长自动控制设备在审

专利信息
申请号: 202211270272.4 申请日: 2022-10-18
公开(公告)号: CN115467015A 公开(公告)日: 2022-12-13
发明(设计)人: 李金;武欢;陈川贵;佘建军;李俊;陈运茂 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第二十六研究所
主分类号: C30B19/06 分类号: C30B19/06;C30B19/08;C30B29/28
代理公司: 重庆辉腾律师事务所 50215 代理人: 王海军
地址: 400060*** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明属于半导体基础材料领域,特别涉及一种液相外延YIG晶体生长自动控制设备,该设备包括:支架、物料放置台、炉体以及籽晶杆结构;支架位于设备的底端,用于支撑整个设备;物料放置台的一端设置在支架内部,另一端设置在炉体的内部;炉体的底部设置在支架顶部,籽晶杆结构设置在炉体的顶部,构成液相外延YIG晶体生长自动控制设备;本发明的设备炉膛采用金属夹层水冷结构,炉膛顶部及底部设计有匹配温场的进出孔径,并设计有T台结构用于进行温场密封,炉体沿母线180度开合,便于温场装卸。
搜索关键词: 一种 外延 yig 晶体生长 自动控制 设备
【主权项】:
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