[发明专利]一种最短冲突路径搜索方法、装置及存储介质在审
| 申请号： | 202211235499.5 | 申请日： | 2022-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN115600547A | 公开（公告）日： | 2023-01-13 |
| 发明（设计）人： | 胡渲;于士涛;马海南;吴登辉 | 申请（专利权）人： | 成都华大九天科技有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/398 | 分类号： | G06F30/398;G06T11/00 |
| 代理公司： | 北京红花知识产权代理事务所(普通合伙) 16030 | 代理人： | 林乐飞 |
| 地址： | 610200 四川*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 为了能够快速检查当前版图中是否存在设计不合理的地方导致相邻图形着色相同(冲突)，本发明公开了一种集成电路物理版图双重曝光中指定掩膜的最短冲突路径搜索方法及装置，包括:a.将多个版图区块中的各版图区块的图形进行二着色；b.将二着色后的各所述版图区块的图形转换为相对应的节点拓扑图：c.针对各所述节点拓扑图中的所有冲突连接，自各冲突连接的两端分别进行广度优先遍历，找到对于每一个冲突连接而言经过该冲突连接且两端是人为指定着色点的最短冲突路径；d.基于针对各冲突连接找到的所有最短冲突路径获取所述节点拓扑图的全局最短冲突路径。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 冲突 路径 搜索 方法 装置 存储 介质 | ||
【主权项】：
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