[发明专利]一种用于光谱调控的耐磨增透涂层及其制备方法在审
| 申请号: | 202211102040.8 | 申请日: | 2022-09-09 |
| 公开(公告)号: | CN115784628A | 公开(公告)日: | 2023-03-14 |
| 发明(设计)人: | 方亮;程猛;倪亚茹;陆春华;许仲梓 | 申请(专利权)人: | 南京工业大学 |
| 主分类号: | C03C17/34 | 分类号: | C03C17/34;C03C17/42 |
| 代理公司: | 南京智转慧移知识产权代理有限公司 32649 | 代理人: | 王伟 |
| 地址: | 210000 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: |
本发明的一种耐磨增透涂层的制备方法,包括以下步骤:制备用于增透的硅溶胶:制备用于耐磨的有机/无机杂化光固化体系:采用涂布法或提拉法在基底上制备SiO |
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| 搜索关键词: | 一种 用于 光谱 调控 耐磨 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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