[发明专利]一种复制Si微结构的方法在审
| 申请号： | 202211098788.5 | 申请日： | 2022-09-07 |
| 公开（公告）号： | CN115542664A | 公开（公告）日： | 2022-12-30 |
| 发明（设计）人： | 张志磊;李宁;居法银 | 申请（专利权）人： | 浙江优众新材料科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 宁波市鄞州盛飞专利代理事务所(特殊普通合伙) 33243 | 代理人： | 洪珊珊 |
| 地址： | 316000 浙江省舟*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明属于微纳加工技术领域，涉及一种复制Si微结构的方法，包括以下步骤：将Si微结构进行防粘处理，然后旋涂紫外固化光刻胶，将第一PET膜放置在紫外固化光刻胶上，压印分离，得到印有与微结构相反的PET膜，进行防粘处理，在其表面放置旋涂纳米压印光刻胶的第二PET膜，压印分离，得到印有微结构的PET膜，进行防粘处理，表面旋涂H‑PDSM，注浇PDMS，热固化后，分离得到PDMS柔性膜，将其放置于压印设备中，在表面放置旋涂有光刻压印胶的光学玻璃，压印，分离得到印有微结构的光学玻璃产品。本发明的复制Si微结构的方法，避免Si微结构与PDMS直接接触，有利于Si微结构的清洗，提高Si微结构使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 复制 si 微结构 方法 | ||
【主权项】：
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