[发明专利]一种改善化学抛光层间均匀性的方法及其应用与实现其的系统及控制方法有效
| 申请号： | 202211058796.7 | 申请日： | 2022-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN115386882B | 公开（公告）日： | 2023-06-06 |
| 发明（设计）人： | 王正祥;杨新煌;殷石见 | 申请（专利权）人： | 立铠精密科技（盐城）有限公司 |
| 主分类号： | C23F3/00 | 分类号： | C23F3/00 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 王艳斋 |
| 地址： | 224052 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种改善化学抛光层间均匀性的方法及其应用与实现其的系统及控制方法，所述改善化学抛光层间均匀性的方法使包含至少两层待抛光件的挂具缓慢浸入抛光液进行抛光，抛光结束后快速提拉所述挂具，使其脱离所述抛光液，得到抛光件；其中，所述缓慢浸入的速度为8～10.5秒/层，所述快速提拉的速度为3～4.6秒/层。通过将特定的缓慢浸入速度与特定的快速提拉速度进行搭配，可以平衡挂具不同层之间产品的有效反应时间及反应程度，最终减小层与层之间的差异，使各层产品的光泽度更加均匀一致，大大提高良品率，并能使制程能力提升20～30％，每天可减少产生约1500片的报废件。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 改善 化学抛光 均匀 方法 及其 应用 实现 系统 控制 | ||
【主权项】：
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