[发明专利]信息处理方法、光刻装置、存储介质及物品制造方法在审
申请号: | 202211050675.8 | 申请日: | 2022-08-29 |
公开(公告)号: | CN116107171A | 公开(公告)日: | 2023-05-12 |
发明(设计)人: | 坂本义树 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00 |
代理公司: | 北京怡丰知识产权代理有限公司 11293 | 代理人: | 迟军;齐文文 |
地址: | 日本东京都*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及信息处理方法、光刻装置、存储介质及物品制造方法,有利于提高对齐精度。所述信息处理方法包括:获取步骤,获取包括多个曝光区域的对象部位;以及选择步骤,在所述多个曝光区域中,将与分割位置对应的曝光区域选择为用于使基板进行位置对准的样本曝光区域,所述分割位置用于将所述对象部位的外周以长度为基准来均等分割为预定个数。 | ||
搜索关键词: | 信息处理 方法 光刻 装置 存储 介质 物品 制造 | ||
【主权项】:
暂无信息
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