[发明专利]一种微阵列模具控形柔性抛光方法有效
| 申请号： | 202211044430.4 | 申请日： | 2022-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN115401530B | 公开（公告）日： | 2023-08-01 |
| 发明（设计）人： | 郭江;康仁科;杨哲;陈桂林 | 申请（专利权）人： | 大连理工大学;大连理工大学宁波研究院 |
| 主分类号： | B24B1/00 | 分类号： | B24B1/00;B24B29/02;B24B49/04 |
| 代理公司： | 辽宁鸿文知识产权代理有限公司 21102 | 代理人： | 许明章;王海波 |
| 地址： | 116024 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种微阵列模具控形柔性抛光方法，为控形柔性抛光。方案一：工件下方安装磁铁，使配制的磁性磨料在磁场力作用下与工件表面贴合并产生接触压力；工件上方安装磁性抛光工具，通过在工具上吸附球形磁铁使其磁化，具备吸附磁性磨料的能力；抛光工具自身旋转，在磁力和离心力的作用下，工具尖端的磁性磨料形成球状抛光头。方案二：采用剪切增稠液，将球头铣刀安装在工件上方，通过球头铣刀的高速旋转，带动剪切增稠液旋转并产生相对的剪切运动，在剪切增稠效应的作用下进行抛光。上述两种方案可以适应微阵列模具特征点的曲率，达到保持微阵列模具面形的目的，可以抛光磁性和非磁性材料，适用范围广。本发明可实现对微阵列模具的高效抛光，克服微阵列模具抛光过程中面形精度和表面质量较低的问题，保持微阵列模原有的面形精度并获得较高的表面质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 阵列 模具 柔性 抛光 方法 | ||
【主权项】：
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