[发明专利]晶圆研磨衬底用UV减粘膜在审
| 申请号： | 202210951601.5 | 申请日： | 2022-08-09 |
| 公开（公告）号： | CN115477916A | 公开（公告）日： | 2022-12-16 |
| 发明（设计）人： | 江叔福;郑伟;李宝成 | 申请（专利权）人： | 浙江铭天电子新材料有限公司 |
| 主分类号： | C09J175/14 | 分类号： | C09J175/14;C09J7/30;C09J7/25;C09J7/24 |
| 代理公司： | 杭州裕阳联合专利代理有限公司 33289 | 代理人： | 金方玮 |
| 地址： | 313300 浙*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本申请公开了晶圆研磨衬底用UV减粘膜，采取如下步骤制备，低聚物制备步骤：以异佛尔酮二异氰酸酯、聚丙二醇以及丙烯酸羟乙酯为原料合成制备得到聚氨酯丙烯酸酯低聚物；胶液配置步骤：在聚氨酯丙烯酸酯低聚物中加入自由基活性稀释剂、光引发剂以及甲醇，而后搅拌均匀得到胶液；成型步骤：将胶液涂覆于膜片上，而后烘干再收卷。本种UV减粘膜具有如下有益效果：在胶液配置阶段使得胶液中各组分均匀分布，且采用热烘干的方式进行成膜，经紫外照射减粘后，UV减粘膜各处粘性均匀。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 衬底 uv 粘膜 | ||
【主权项】：
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