[发明专利]曝光周期调整装置及方法在审
| 申请号： | 202210870559.4 | 申请日： | 2022-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN115390364A | 公开（公告）日： | 2022-11-25 |
| 发明（设计）人： | 王杰;李娜 | 申请（专利权）人： | 北京华卓精科科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京荟英捷创知识产权代理事务所(普通合伙) 11726 | 代理人： | 王献茹 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区科创*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种曝光周期调整装置及方法，涉及超精密测量领域。该装置包括控制模块以及与控制模块连接的第一、第二、第三和第四电动镜组，以及第一、第二位置探测器和周期测量模块，还包括第一、第二分光镜和第一、第二解耦透镜；第一入射光束能够依次通过第二电动镜组、第一电动镜组和第一分光镜；第二入射光束能够依次通过第四电动镜组、第三电动镜组和第一分光镜；两条入射光束在第一分光镜的入射点相同；经第一分光镜分光的光束，一路入射至周期测量模块，另一路通过第二分光镜；经第二分光镜分光的光束，一路通过第一解耦透镜后抵达第一位置探测器，另一路通过第二解耦透镜后抵达第二位置探测器。该装置调整精度高，适用范围广。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 周期 调整 装置 方法 | ||
【主权项】：
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