[发明专利]一种电光调制集成波导结构在审

专利信息
申请号: 202210864388.4 申请日: 2022-07-21
公开(公告)号: CN115166898A 公开(公告)日: 2022-10-11
发明(设计)人: 姚丹阳;刘艳;韩根全;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: G02B6/10 分类号: G02B6/10;G02B6/12
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 侯琼;王品华
地址: 710071*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种电光调制集成波导结构,主要解决现有技术中氮化铝电光调制器调制深度和速率不足的问题。方案为:自下而上包括硅衬底、氧化硅埋层、半导体薄层和波导调制区域;其中,半导体薄层厚度不超过100nm;波导调制区域包括波导、盖层、顶电极和底电极;波导位于半导体薄层的上表面中间位置,并与半导体薄层紧密接触;盖层覆盖在波导和半导体薄层之上;顶电极位于波导的正上方,并与盖层紧密接触;底电极位于波导的一侧。本发明能够有效避免氧化硅介质的过度分压作用,实现电场最大化利用;同时,具有结构工艺简单、成本低廉且兼容性强的特点,可大幅度提高氮化铝电光调制器的性能。
搜索关键词: 一种 电光 调制 集成 波导 结构
【主权项】:
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