[发明专利]应用于湿刻清洗机台的温度控制系统及方法在审
| 申请号： | 202210810463.9 | 申请日： | 2022-07-11 |
| 公开（公告）号： | CN115016572A | 公开（公告）日： | 2022-09-06 |
| 发明（设计）人： | 张延鲁 | 申请（专利权）人： | 上海积塔半导体有限公司 |
| 主分类号： | G05D23/20 | 分类号： | G05D23/20 |
| 代理公司： | 华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人： | 成亚婷 |
| 地址： | 200135 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本申请涉及一种应用于湿刻清洗机台的温度控制系统及方法。湿刻清洗机台包括若干个功能槽，温度控制系统包括：电控温装置，与功能槽热交换连接；电控温装置用于进行电能和热能之间的转换，以对功能槽进行控温；化学反应控温装置，与功能槽热交换连接；化学反应控温装置用于进行化学能和热能之间的转换，以对功能槽进行控温。所述温度控制系统，电控温装置由于湿刻清洗机台出现跳电或断电等异常情况而无法正常工作时，化学反应控温装置能够不受影响地继续对功能槽进行控温，从而避免功能槽在湿刻清洗机台出现跳电或断电等异常情况时出现温度的大范围波动，进而避免晶圆的工艺进程受到影响。 | ||
| 搜索关键词： | 应用于 清洗 机台 温度 控制系统 方法 | ||
【主权项】：
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