[发明专利]一种通过透射谱计算微米级单晶的折射率、消光系数及厚度的方法在审
| 申请号： | 202210796391.7 | 申请日： | 2022-07-06 |
| 公开（公告）号： | CN115165802A | 公开（公告）日： | 2022-10-11 |
| 发明（设计）人： | 刘新风;姜传秀;杜文娜 | 申请（专利权）人： | 国家纳米科学中心 |
| 主分类号： | G01N21/41 | 分类号： | G01N21/41;G01N21/59;G01B11/06 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 赵颖 |
| 地址： | 100190 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明提供一种通过透射谱计算微米级单晶的折射率、消光系数及厚度的方法，所述方法包括：测试样品的微区透射谱，通过读谱获取极值点的相关参数，再分别求解极值点的干涉介数；通过迭代等算法，分别对偶数极值点以及奇数极值点的折射率、消光系数和吸收系数等参数进行计算，通过上述参数绘制出折射率色散曲线，最终通过迭代计算绘制出消光系数色散曲线。所述方法可以获得微米级样品的信息，与现有的椭偏仪测试相比，更加简便快捷且廉价。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 通过 透射 计算 微米 级单晶 折射率 系数 厚度 方法 | ||
【主权项】：
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