[发明专利]一种稳定保水的水基研磨抛光液在审
申请号: | 202210784163.8 | 申请日: | 2022-07-05 |
公开(公告)号: | CN115109523A | 公开(公告)日: | 2022-09-27 |
发明(设计)人: | 白杨;曾雪锋;胡海翔;罗霄;刘振宇;王孝坤 | 申请(专利权)人: | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
主分类号: | C09G1/02 | 分类号: | C09G1/02 |
代理公司: | 长春中科长光知识产权代理事务所(普通合伙) 22218 | 代理人: | 陈陶 |
地址: | 130033 吉林省长春*** | 国省代码: | 吉林;22 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供了一种稳定保水的水基研磨抛光液,包括以下重量百分比的组分:抛光粉0.1%~10%,分散剂2%~5%,乳化剂3%~8%,保湿剂30%~60%,缓蚀剂0.5%~1%,防腐剂0.2%~0.5%,pH调节剂0.1‑0.5%,消泡剂0.05%~0.2%,余量为水;所述分散剂选自聚丙烯酸铵盐分散剂、二磺酸盐阴离子分散剂、马来酸‑丙烯酸共聚分散剂、聚丙烯苯磺酸钠盐分散剂、羧酸‑磺酸‑丙烯酸酯三元共聚物中的一种或多种;所述保湿剂选自乙二醇、丙二醇、二乙二醇、丙三醇、丁二醇、聚甘油、山梨醇、芦芭油、透明质酸钠、壳聚糖类中的两种或多种。本发明提供的水基研磨抛光液稳定、保水性能好。 | ||
搜索关键词: | 一种 稳定 研磨 抛光 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210784163.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。