[发明专利]一种大矢高光学结构阵列的加工方法

摘要

本发明公开了一种大矢高光学结构阵列的加工方法，本发明在加工时，未固化胶水软膜滴设在软膜表面，上面是玻璃基板，压印过程中，设备控制软膜上表面和玻璃基板下表面间距不断减小，胶水通过软膜和玻璃基板的挤压向外扩散开，且不断向下填充软膜的凹面结构，直到胶水扩散到玻璃基板边缘，达到预设厚度，并填充软膜的所有凹面结构。本发明避免了玻璃基板向上带动胶水挤压软膜，胶水填充软膜凹面，胶层厚度低于凹面矢高时，凹面软膜无法被完全填充，需增加胶量，引入溢胶，导致软膜侧面被包裹，脱模困难的问题，减少了材料用量，提高了大矢高结构阵列压印良率。