[发明专利]一种微纳米结构防失真转印方法及转印装置在审

专利信息
申请号: 202210715522.4 申请日: 2022-06-22
公开(公告)号: CN114953797A 公开(公告)日: 2022-08-30
发明(设计)人: 劳召欣;李鑫凯;吴思竹;张晨初 申请(专利权)人: 合肥工业大学
主分类号: B41M3/12 分类号: B41M3/12;B41M5/025;B41F16/00
代理公司: 合肥市泽信专利代理事务所(普通合伙) 34144 代理人: 方荣肖
地址: 230009 安*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明涉及一种微纳米结构防失真转印方法及转印装置。转印方法包括以下步骤:S1:将待转印材料预处理形成预聚体,S2:将预聚体和模板共同放入一个真空容器内,S3:对真空容器做真空处理,S4:利用遥控器将预聚体倾倒在模板上,S5:对真空容器破真空,S6:重复S3和S5直至模板的转印结构被预聚体完全填充,S7:将模板和覆盖在模板上的预聚体从真空容器内取出,将预聚体固化形成微纳米结构,对微纳米结构做脱模处理。本发明利用遥控器在真空容器外控制待转印材料的倾倒,在真空腔内实现微纳米转印操作,通过预先对真空容器做真空处理,消除了模板结构气体被密封造成的转印失真,利用填充槽内外气压差将预聚体挤压到填充槽内,提高了转印的效率。
搜索关键词: 一种 纳米 结构 失真 方法 装置
【主权项】:
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