[发明专利]投影装置及光学观察装置在审
| 申请号： | 202210705877.5 | 申请日： | 2022-06-21 |
| 公开（公告）号： | CN115639666A | 公开（公告）日： | 2023-01-24 |
| 发明（设计）人： | 石田一树;井上和纪 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G02B21/36 | 分类号： | G02B21/36;G02B21/18;G02B21/22;G02B21/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 房永峰 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种能够抑制装置的大型化，并且能够同时观察投影到观察对象的第1图像及投影到与观察对象不同的对象的第2图像的投影装置及光学观察装置。投影部(1)射出第1光(11)及第2光(12)。激发部(2)在第2光(12)入射的状态下激发第3光(13)。光学部件(3)透射和/或反射第1光(11)、第2光(12)及第3光(13)。第1光(11)经由光学部件(3)引向观察对象(100)，且被观察对象反射并且经由光学部件引向观察者。 | ||
| 搜索关键词： | 投影 装置 光学 观察 | ||
【主权项】：
暂无信息
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