[发明专利]用于确定衬底上的一个或更多个结构的特性的量测系统和方法在审
| 申请号： | 202210653171.9 | 申请日： | 2018-09-18 |
| 公开（公告）号： | CN114993205A | 公开（公告）日： | 2022-09-02 |
| 发明（设计）人： | P·A·J·蒂内曼斯;A·J·登博夫;A·E·A·科伦;N·潘迪;V·T·滕纳;W·M·J·M·考恩;帕特里克·沃纳阿 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24;G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 描述了一种用于确定与在衬底上的至少一个结构相关的感兴趣的特性的量测系统、和相关联的方法。所述量测系统包括处理器，所述处理器配置成根据被检测到的散射辐射的特性以计算的方式确定相位和振幅信息，作为在测量获取中用照射辐射来照射所述至少一个结构的结果，所述散射辐射已经被所述至少一个结构反射或散射，所述处理器配置成使用被确定的相位和振幅来确定感兴趣的特性。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 确定 衬底 一个 更多 结构 特性 系统 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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