[发明专利]一种自适应双密度双树复小波扣除本底方法在审
| 申请号： | 202210639044.3 | 申请日： | 2022-06-07 |
| 公开（公告）号： | CN115186219A | 公开（公告）日： | 2022-10-14 |
| 发明（设计）人： | 李福生;朱鹏飞;杨婉琪;赵彦春 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | G06F17/10 | 分类号： | G06F17/10;G01N23/223 |
| 代理公司： | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人： | 曾磊 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种自适应双密度双树复小波扣除本底方法，该方法包括原始光谱数据导入；选取目标元素的峰值范围，确定最佳小波分解层数；利用迭代双密度双树复小波进行本底扣除；根据本底的峰值和误差来判断迭代次数。本发明首次将双密度双树复小波变换用于X射线荧光光谱预处理，它相比于普通小波具有平移不变性，紧支撑等优点；同时根据目标元素峰值来确定分解层数和迭代次数，有效防止目标元素峰值偏移和面积变化，提升了元素分析的快速性和准确性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 自适应 密度 双树复小波 扣除 本底 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于电子科技大学，未经电子科技大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210639044.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
