[发明专利]一种光学掩模修正模型优化构建方法、装置及计算机设备在审
| 申请号： | 202210616447.6 | 申请日： | 2022-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN115268204A | 公开（公告）日： | 2022-11-01 |
| 发明（设计）人： | 张生睿 | 申请（专利权）人： | 东方晶源微电子科技(北京)有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36;G03F7/20;G06F30/20 |
| 代理公司： | 深圳市智享知识产权代理有限公司 44361 | 代理人： | 罗芬梅 |
| 地址： | 100176 北京市大兴区北*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明涉及计算光刻技术领域，特别涉及一种光学掩模修正模型的优化构建方法，方法包括以下步骤：S0：获取掩模版图的多个特征尺寸和亚分辨率辅助图形的特征数据并进行特征数据进行预处理，得到拟合数据；S1：根据特征尺寸进行OPC建模，得到初始OPC模型；S2：根据拟合数据对初始OPC模型进行优化，得到优化OPC模型。本发明提供的对传统OPC模型进行了优化，引入了亚分辨率辅助图形的特征数据，可以使得优化OPC模型可以更便捷、准确地判断亚分辨率辅助图形是否印出，以便于对亚分辨率辅助图形进行调整。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学 修正 模型 优化 构建 方法 装置 计算机 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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