[发明专利]一种可降解的壳聚糖基锂离子印迹膜的制备方法在审
| 申请号： | 202210615204.0 | 申请日： | 2022-06-01 |
| 公开（公告）号： | CN114904490A | 公开（公告）日： | 2022-08-16 |
| 发明（设计）人： | 魏永刚;刘宇轩;杨家琪;李博;周世伟;曲国瑞;王昊;王华 | 申请（专利权）人： | 昆明理工大学 |
| 主分类号： | B01J20/24 | 分类号： | B01J20/24;B01J20/28;B01J20/30;B01D67/00;B01D69/12 |
| 代理公司： | 昆明人从众知识产权代理有限公司 53204 | 代理人： | 沈艳尼 |
| 地址： | 650000 云*** | 国省代码： | 云南;53 |
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| 摘要： |
本发明公开一种可降解的壳聚糖基锂离子印迹膜的制备方法，属功能材料制备技术领域。本发明首先利用壳聚糖的可降解特性制备杂化基膜；然后以此膜为载体、Li |
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| 搜索关键词： | 一种 降解 聚糖 锂离子 印迹 制备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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