[发明专利]一种高精度无掩膜激光投影光刻系统及方法在审
| 申请号： | 202210576405.4 | 申请日： | 2022-05-25 |
| 公开（公告）号： | CN114924466A | 公开（公告）日： | 2022-08-19 |
| 发明（设计）人： | 朱时军;于慢慢 | 申请（专利权）人： | 南京理工大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人： | 陈鹏 |
| 地址： | 210094 *** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高精度无掩膜激光投影光刻系统及方法，该方法设计光源模块用以获得线偏振激光束，通过空间光调制器及4f系统调节相位振幅，是得到一束准直并滤波之后的一级衍射光，此光束能够对目标进行成像，调控样品内的目标模板的灰度矩阵进行光束整形可得不同光斑形状；控制模块用于以像素为单位调制刻写激光的大小；光制造模块根据光斑校正模块的指令切换轴的像素位移；结合菲涅耳定律，高效地对所需要的模板进行自组装，投影物镜将出射光成像到硅片表面。本申请的光刻系统结构简单，实验能量利用率高，无需掩模的纳米加工技术，具有超高分辨率、灵活性强和性能稳定等优势。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 高精度 无掩膜 激光 投影 光刻 系统 方法 | ||
【主权项】：
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