[发明专利]约束边缘非阴影区构件构造方法、装置、设备和存储介质在审
| 申请号： | 202210555067.6 | 申请日： | 2022-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN114996789A | 公开（公告）日： | 2022-09-02 |
| 发明（设计）人： | 李根德;李晓蕾;艾新昶;王迪;柯昱 | 申请（专利权）人： | 广联达科技股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/12 | 分类号： | G06F30/12;G06F30/13 |
| 代理公司： | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 11015 | 代理人： | 程超 |
| 地址： | 100193 北京市海*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种约束边缘非阴影区构件构造方法、装置、设备和存储介质，该方法包括：获取约束边缘非阴影区构件所需附着的组合构件，其中，组合构件包含墙体构件和约束边缘阴影区构件；响应于约束边缘非阴影区构件的创建指令，根据需求在预设的属性面板中输入约束边缘非阴影区构件的长度属性参数；确定墙体构件中的插入点，根据插入点与约束边缘阴影区构件的相对位置确定约束边缘非阴影区构件附着的目标约束边缘阴影区构件，根据插入点与目标约束边缘阴影区构件的相对位置确定约束边缘非阴影区构件的插入方向；通过长度属性参数、插入方向和目标约束边缘阴影区构件构造约束边缘非阴影区构件。 | ||
| 搜索关键词： | 约束 边缘 阴影 构件 构造 方法 装置 设备 存储 介质 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广联达科技股份有限公司，未经广联达科技股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210555067.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
