[发明专利]一种柔性薄膜高均匀接触式对准曝光装置在审
| 申请号： | 202210445026.1 | 申请日： | 2022-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN114879452A | 公开（公告）日： | 2022-08-09 |
| 发明（设计）人： | 高国涵;杜俊峰;边疆;范斌;雷柏平;吴时彬;刘鑫;汪利华;石恒;杨虎 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电技术研究所 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人： | 邓治平 |
| 地址： | 610209 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种柔性薄膜高均匀接触式对准曝光装置，包括腔体骨架、隔振底座、光学窗口、光掩膜版、柔性薄膜、六自由度平台、压圈支架、柔性压圈、升降机构、旋转机构、万向节、显微镜位移台和显微镜。腔体骨架和隔振底座连接构成真空腔体，六自由度平台和升降机构均与腔体骨架连接。光学窗口嵌于隔振底座对光掩膜版起支撑作用。柔性薄膜由薄膜支架支撑并与六自由度平台连接。压圈支架向上依次连接万向节、旋转机构和升降机构，向下连接柔性压圈。显微镜通过显微镜位移台与压圈支架连接。本发明降低传统接触式光刻机不均匀的空气间隙，提高曝光分辨率；减小传统真空贴附方法对薄膜造成的变形，提高对准套刻精度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 柔性 薄膜 均匀 接触 对准 曝光 装置 | ||
【主权项】：
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