[发明专利]一种电化学添加剂反应控制装置及方法在审
| 申请号： | 202210381414.8 | 申请日： | 2022-04-12 |
| 公开（公告）号： | CN114525575A | 公开（公告）日： | 2022-05-24 |
| 发明（设计）人： | 马丁·施莱 | 申请（专利权）人： | 鑫巨（深圳）半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | C25D21/12 | 分类号： | C25D21/12;C25D5/00 |
| 代理公司： | 深圳市精英专利事务所 44242 | 代理人： | 丁宇龙 |
| 地址： | 518000 广东省深圳市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种电化学添加剂反应控制装置及方法，该装置包括用于对生产板进行电镀处理的电镀槽和可照射至所述生产板上的光学组件；所述电镀槽盛有用于与所述生产板发生电镀反应的电镀液和用于促进电镀反应的电化学添加剂；所述光学组件用于对所述电化学添加剂的有机物活性进行控制。本发明通过光学组件实现对电镀过程中的有机物活性进行控制，通过电化学添加剂加速或抑制电化学过程，进而实现对高密度电镀附着区域更好的厚度变化控制如此便可以提高对于生产板的电镀处理性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电化学 添加剂 反应 控制 装置 方法 | ||
【主权项】：
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