[发明专利]红外线侦测结构在审
| 申请号： | 202210291651.5 | 申请日： | 2022-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN114659642A | 公开（公告）日： | 2022-06-24 |
| 发明（设计）人： | 蒋光浩;庄尚余 | 申请（专利权）人： | 鸿海精密工业股份有限公司 |
| 主分类号： | G01J5/20 | 分类号： | G01J5/20 |
| 代理公司： | 北京派特恩知识产权代理有限公司 11270 | 代理人： | 康艳青;王琳 |
| 地址： | 中国台湾新*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 红外线侦测结构包括基材、主动像素阵列、参考像素阵列、光吸收层、侧壁间隔结构以及遮光层。主动像素阵列位于基材上。参考像素阵列位于基材上，并相邻于主动像素阵列，且具有参考像素。参考像素包含基板、电阻元件以及红外线感应材料层。电阻元件位于基板上。红外线感应材料层位于电阻元件上方。光吸收层位于参考像素上方。侧壁间隔结构位于参考像素上方，且延伸于光吸收层的侧壁。遮光层共形地形成于光吸收层以及侧壁间隔结构上方。 | ||
| 搜索关键词： | 红外线 侦测 结构 | ||
【主权项】：
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