[发明专利]基于飞秒激光辅助湿法刻蚀制备光纤端面微透镜阵列技术在审
| 申请号： | 202210270873.9 | 申请日： | 2022-03-18 |
| 公开（公告）号： | CN114815066A | 公开（公告）日： | 2022-07-29 |
| 发明（设计）人： | 李正勇;梁磊;涂彬 | 申请（专利权）人： | 中山市精量光电子科技有限公司;中山市武汉理工大学先进工程技术研究院 |
| 主分类号： | G02B6/255 | 分类号： | G02B6/255;C03C25/68 |
| 代理公司： | 深圳叁众知识产权代理事务所(普通合伙) 44434 | 代理人： | 宋鹏飞 |
| 地址： | 528437 广东省中山市火*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了基于飞秒激光辅助湿法刻蚀制备光纤端面微透镜阵列技术，包括以下步骤：S10将无芯光纤与普通单模光纤熔接后，将无芯光纤进行切割；S20通过飞秒激光诱导无芯光纤折射率改性；S30配置浓度为5％‑10％的氢氟酸溶液；S40将氢氟酸溶液倒入腐蚀装置后，通过水浴法将氢氟酸溶液加热到40℃‑50℃；S50无芯光纤待腐蚀端面通过腐蚀装置中的夹具固定后将其插入氢氟酸溶液中；S60对腐蚀装置中的氢氟酸溶液进行搅拌使氢氟酸溶液始终处于流动状态；S70清除烘干。与现有的技术相比，本发明具有如下优点：解决了现有传统微透镜阵列集成度不高的问题，采用全光纤式结构，及导光和传像于一体，可以使系统结构更加紧凑，成本低、便于集成。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 激光 辅助 湿法 刻蚀 制备 光纤 端面 透镜 阵列 技术 | ||
【主权项】：
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