[发明专利]一种真空吸盘、纳米压印设备及其控制方法在审
申请号: | 202210252878.9 | 申请日: | 2022-03-15 |
公开(公告)号: | CN114442424A | 公开(公告)日: | 2022-05-06 |
发明(设计)人: | 刘晓成;宋崇顺;何钊;史晓华 | 申请(专利权)人: | 苏州光舵微纳科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/00 | 分类号: | G03F7/00 |
代理公司: | 苏州华博知识产权代理有限公司 32232 | 代理人: | 杨敏 |
地址: | 215000 江苏省苏州市常熟市虞山*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种真空吸盘、纳米压印设备及其控制方法,用于纳米压印设备,所述纳米压印设备包括滚压机构,所述真空吸盘包括:吸盘本体;吸附孔,所述吸附孔阵列设置在所述吸盘本体上,沿与滚压机构辊压前进方向垂直的方向的一列或多列吸附孔连通形成一个吸附单元,所述吸附孔阵列形成多个吸附单元。本发明的有益之处在于,通过设置阵列排布的吸附孔,在压印过程中逐步吸真空,使软膜在压印过程中不出现褶皱和气泡,同时使软膜与基板配合更加紧密,压印效果更好,在加工完成后,逐步破真空,方便软膜的拿取。 | ||
搜索关键词: | 一种 真空 吸盘 纳米 压印 设备 及其 控制 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
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