[发明专利]刻蚀气体监测系统及气体状态分析方法在审
| 申请号： | 202210228509.6 | 申请日： | 2022-03-08 |
| 公开（公告）号： | CN114544521A | 公开（公告）日： | 2022-05-27 |
| 发明（设计）人： | 戴星灿;王新河;林晓阳;常晓阳;赵巍胜 | 申请（专利权）人： | 北京航空航天大学 |
| 主分类号： | G01N21/27 | 分类号： | G01N21/27;G01N21/45;G01N21/01 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人： | 叶明川;董骁毅 |
| 地址： | 100191*** | 国省代码： | 北京;11 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种刻蚀气体监测系统及气体状态分析方法。该系统包括：信号光源光梳、本振光源光梳、导光模块、等离子体刻蚀腔室、第一信号采集装置、参考臂和气体状态分析装置；导光模块将信号光源光梳发出的信号光和本振光源光梳发出的本振光合束得到混合光，将混合光分束为探测光和参考光；等离子体刻蚀腔室中的刻蚀气体吸收探测光，第一信号采集装置将吸收后的探测光转换为刻蚀射频信号；参考臂中的参考气体吸收参考光，将该吸收后的参考光转换为参考射频信号；气体状态分析装置分别与信号采集装置和参考臂连接，根据刻蚀射频信号和参考射频信号确定刻蚀气体状态，可以提高刻蚀气体监测的灵敏度，分辨率和实时性。 | ||
| 搜索关键词： | 刻蚀 气体 监测 系统 状态 分析 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京航空航天大学，未经北京航空航天大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/202210228509.6/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：光学构件及光学加密方法
- 下一篇：一种陆上舱段悬浮墩座结构
