[发明专利]一种铁片匀场方法在审
申请号: | 202210228506.2 | 申请日: | 2022-03-08 |
公开(公告)号: | CN114636958A | 公开(公告)日: | 2022-06-17 |
发明(设计)人: | 王耀辉;王秋良 | 申请(专利权)人: | 中国科学院电工研究所 |
主分类号: | G01R33/3873 | 分类号: | G01R33/3873 |
代理公司: | 北京科迪生专利代理有限责任公司 11251 | 代理人: | 江亚平 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供一种铁片匀场方法,以磁场均匀度偏差一范数与铁片厚度加权为目标函数。通过引入额外变量,实现磁场均匀度偏差一范数的去绝对值转换,使得目标函数转换为线性形式,再在原有铁片厚度约束中加入新引入变量的非负性约束以及磁场偏差一范数去绝对值后的等式约束,如此构成新的线性优化体系。进一步引入最小铁片厚度,对原有铁片厚度变量进行数值变换,然后形成新的待求解变量。通过整数优化算法对新的线性优化体系进行求解,得到铁片分布的整数解。本发明采用一台9.4T人体磁共振成像超导磁体初始磁场数据,使得上述高性能铁片匀场方法的匀场效果得到验证。 | ||
搜索关键词: | 一种 铁片 方法 | ||
【主权项】:
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