[发明专利]一种DRIE工艺误差监测系统及方法在审
| 申请号： | 202210200613.4 | 申请日： | 2022-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN114988351A | 公开（公告）日： | 2022-09-02 |
| 发明（设计）人： | 吴国强;冯荣辉;吴忠烨 | 申请（专利权）人： | 武汉大学 |
| 主分类号： | B81C99/00 | 分类号： | B81C99/00 |
| 代理公司： | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人： | 胡琦旖 |
| 地址： | 430072 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明属于MEMS器件加工监测技术领域，公开了一种DRIE工艺误差监测系统及方法。本发明结合测试数据库和有限元仿真数据库，可获得晶圆由于工艺误差引起的特征尺寸损耗、侧壁陡直度和倾斜度的实际误差值。本发明能够在不破坏晶圆的情况下，实现对DRIE工艺多参数晶圆级无损监测，可获取晶圆上局部或整体区域的具体参数，保证了监测数据的有效性和准确性，对于提高基于DRIE工艺的MEMS器件性能有重要意义。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 drie 工艺 误差 监测 系统 方法 | ||
【主权项】：
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