[发明专利]一种保持压力恒定的单晶硅抛光设备

摘要

本发明公开了一种保持压力恒定的单晶硅抛光设备，包括加工中心，所述加工中心由基座，安装于基座上的外壳以及安装于外壳上的罩门组成，所述基座上设置有固定组件，所述外壳内设置有加工刀头，所述加工刀头一侧设置有刀库，所述加工刀头上设置有压力调控组件，所述外壳内设置有横移调节机构与压力调控组件连接，所述外壳以及基座上设置有冷却液供排组件；本发明的有益效果是，该保持压力恒定的单晶硅抛光设备，采用主轴与刀头轴向连接的方式，主轴外设置有压力调控组件配合弹性阻尼检测组件，实时对加工刀头的压力进行监测，避免加工刀头的压力的突然变化损坏物料以及刀头，不仅提高了加工的成品率也有效的提高了刀头的使用寿命，同时结构简单，拆装方便，便于维护。