[发明专利]一类侧链含叠氮基团的聚合物半导型光刻胶及其制备方法与应用有效
| 申请号： | 202210161724.9 | 申请日： | 2022-02-22 |
| 公开（公告）号： | CN114479020B | 公开（公告）日： | 2023-06-20 |
| 发明（设计）人： | 张德清;高晨英;李诚;张关心;张西沙 | 申请（专利权）人： | 中国科学院化学研究所 |
| 主分类号： | C08G61/12 | 分类号： | C08G61/12;C07D487/04;G03F7/012;H10K71/00 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 11245 | 代理人： | 赵静 |
| 地址： | 100190 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： |
本发明公开了一种侧链含叠氮基团的有机聚合物半导体光刻胶及其制备方法与应用，实现了利用365nm紫外光高效交联的有机半导体器件图案化。本发明提供的一类半导体光刻胶，其结构式如下式I所示，式I中，Ar选自芳基、杂芳基、含有取代基的芳基和含有取代基的杂芳基中的任意一种，且其基团内部的键合方式选自单键、双键和三键中的至少一种；所述杂芳基选自单环杂芳基、双环杂芳基和三环杂芳基中的任意一种，所述杂芳基中的杂原子选自氧、硫和硒中的至少一种；其制备方法通过碳碳偶联反应得到聚合物。实现了有机半导体器件高效图案化。 |
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| 搜索关键词： | 一类 侧链含叠氮 基团 聚合物 半导型 光刻 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
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