[发明专利]一种紫外193nm增透膜的制备方法在审
| 申请号： | 202210084353.9 | 申请日： | 2022-04-08 |
| 公开（公告）号： | CN114853355A | 公开（公告）日： | 2022-08-05 |
| 发明（设计）人： | 鲍刚华 | 申请（专利权）人： | 常州市万华激光科技有限公司;鲍刚华 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34;C23C14/02;C23C14/06;G02B1/115 |
| 代理公司： | 常州市夏成专利事务所(普通合伙) 32233 | 代理人： | 蒋丹 |
| 地址： | 213000 江苏省常*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明涉及增透膜的技术领域，尤其涉及一种紫外193nm增透膜的制备方法。制备方法的镀膜材料为氟化镧和氟化镁，采用热电阻蒸发材料的方式进行镀膜，镀膜基底采用的是高纯度熔融JGS1石英玻璃。采用了高纯度熔融JGS1石英玻璃，此种基板机械强度高表面易于处理，可做成高精抛光表面，减少基板界面的散射，整体提高了紫外193nm增透膜的透过率，降低了193nm处的损耗，提高了光刻机的能量传输效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 紫外 193 nm 增透膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
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