[发明专利]一种基于扭曲液晶阵列的偏振强度双模式成像系统在审
| 申请号： | 202210069634.7 | 申请日： | 2022-01-21 |
| 公开（公告）号： | CN114414052A | 公开（公告）日： | 2022-04-29 |
| 发明（设计）人： | 穆全全;张士元;孙子珺;彭增辉;张杏云;李大禹;王启东;鲁兴海;宣丽 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | G01J4/00 | 分类号： | G01J4/00;G02B26/00;G02B27/28;G02F1/133 |
| 代理公司： | 长春众邦菁华知识产权代理有限公司 22214 | 代理人： | 李青 |
| 地址： | 130000 吉*** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明公布了一种基于扭曲液晶阵列的偏振强度双模式成像系统，属于偏振成像及液晶器件设计领域。该系统主要包括前置镜头，微透镜阵列，双向扭曲阵列化液晶器件，均匀偏振片，中继镜头，图像传感器焦平面。所提出的双向阵列化扭曲液晶偏振器件采取了阵列化偏振调制部分与整体强度调制部分彼此分离的结构，通过插入或切出均匀偏振片，即可实现偏振成像与光强和分辨率无损失的强度成像，而无需偏振阵列与探测器像素间的反复配准。本发明通过对双向扭曲阵列化液晶层参数的优化设计，可实现线偏振成像或全偏振成像，同时具有制备低成本、工艺简单、消光比高、工作波段宽等技术优势，促进了分焦面型偏振成像系统的实际应用。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 扭曲 液晶 阵列 偏振 强度 双模 成像 系统 | ||
【主权项】：
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