[发明专利]一种联合高斯过程的微带电路半空间映射快速优化方法在审
| 申请号： | 202210066482.5 | 申请日： | 2022-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN114492253A | 公开（公告）日： | 2022-05-13 |
| 发明（设计）人： | 喻梦霞;汪家兴;宁宇航 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | G06F30/30 | 分类号： | G06F30/30 |
| 代理公司： | 电子科技大学专利中心 51203 | 代理人： | 邓黎 |
| 地址： | 611731 四川省成*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种联合高斯过程的微带电路半空间映射快速优化方法，属于微波射频电路的计算机辅助设计领域。该方法首先确定微带电路设计指标和需要优化的结构变量，构建粗模型；获得粗模型最佳设计尺寸；判断粗模型最佳设计尺寸是否满足设计指标，若是，则输出结果并结束流程，否则进入下一步；通过对优化方向的判断，按半星状分布选取初始的训练样本和减半的优化空间；训练半空间映射高斯过程模型；优化模型，预测下一代的最优结果并验证；若满足设计指标则结束流程并输出优化结果，否则进行参数提取并更新训练集，进行迭代优化。本发明能够很大程度地提高微带电路的设计效率，降低空间映射技术所需的训练样本数量，加快优化过程中的收敛速度。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 联合 过程 微带 电路 半空 映射 快速 优化 方法 | ||
【主权项】：
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