[发明专利]一种强辐照工作环境下激光放大装置结构件的水基清洗剂及其清洗方法在审
| 申请号： | 202210060540.3 | 申请日： | 2022-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN114437875A | 公开（公告）日： | 2022-05-06 |
| 发明（设计）人： | 王利;朱健强;夏志强;庞向阳 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海光学精密机械研究所 |
| 主分类号： | C11D1/72 | 分类号： | C11D1/72;C11D3/60;C11D3/12;C11D3/20;C11D3/43;C11D11/00 |
| 代理公司： | 上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317 | 代理人： | 张宁展 |
| 地址： | 201800 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种辐照工作环境下激光放大装置结构件的水基清洗剂及其清洗方法，属于金属零件的清洗技术领域，由以下原料按重量份制备而成：DBE溶剂2份，3‑甲氧基‑3‑甲基‑1‑丁醇2份，非离子表面活性剂5份，乳化剂1份，去离子水10份。相较传统的超声波清洗，本发明超声波清洗液失效时间是传统纯超声波水基清洗液的数倍，此方案可以节约大量的水资源。达到同样的清洗效果，本发明工作效率也相较传统超声波清洗高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 辐照 工作 环境 激光 放大 装置 结构件 水基清 洗剂 及其 清洗 方法 | ||
【主权项】：
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