[发明专利]微影图案叠对校正方法及系统与光罩图案产生方法在审
| 申请号： | 202210059299.2 | 申请日： | 2022-01-19 |
| 公开（公告）号： | CN114911139A | 公开（公告）日： | 2022-08-16 |
| 发明（设计）人： | 黄天兴 | 申请（专利权）人： | 普思半导体股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京泰吉知识产权代理有限公司 11355 | 代理人： | 谢琼慧;秦小耕 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种微影图案叠对校正方法，包含选取步骤、叠对误差取得步骤、计算步骤，及校正步骤。于半导体基材上选取具有多个形成于前、后层的线路图案的选定区域；取得其中两个叠对误差，并计算出校正尺寸值；自所述线路图案移除或插入校正图案来进行叠对校正。本案利用图像文件系统通过线路图案的两个叠对误差计算得到校正参数，以对线路图案进行叠对校正，而不受限于对准机台的量测补偿的对准极限，以提升叠对校正的精确性。此外，本发明还提供一种利用经过叠对校正后的线路图案产生光罩的光罩图案产生方法，及用于前述微影图案叠对校正方法及光罩图案产生方法的微影图案叠对校正系统。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 校正 方法 系统 产生 | ||
【主权项】：
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