[发明专利]一种高致密性耐电压的等离子体喷涂氧化钇涂层制备方法在审
申请号: | 202210048670.5 | 申请日: | 2022-01-17 |
公开(公告)号: | CN114507837A | 公开(公告)日: | 2022-05-17 |
发明(设计)人: | 王嘉雨;安朋娜 | 申请(专利权)人: | 北京富创精密半导体有限公司 |
主分类号: | C23C4/11 | 分类号: | C23C4/11;C23C4/134;C23C4/02 |
代理公司: | 沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234 | 代理人: | 孙奇 |
地址: | 100176 北京市大兴区北京经*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种高致密性耐电压的等离子体喷涂氧化钇涂层制备方法,使用特殊的轴向大气等离子体喷涂设备进行制备。具体步骤是:(1)使用亚微米至纳米级氧化钇粉末并结合适当溶剂配置成溶液;(2)喷涂前对溶液进行适当处理;(3)对待喷涂的零件表面进行喷砂处理;(4)对零件进行致密大气等离子体氧化钇涂层制备。该方法获得的氧化钇涂层具有高致密性,高耐腐蚀性和抗电压性。在耐等离子体刻蚀的环境中具有优异的表现。 | ||
搜索关键词: | 一种 致密 电压 等离子体 喷涂 氧化钇 涂层 制备 方法 | ||
【主权项】:
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
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