[发明专利]用于静态时序分析的余量校正方法及余量校正系统在审
| 申请号： | 202210035250.3 | 申请日： | 2022-01-13 |
| 公开（公告）号： | CN116484779A | 公开（公告）日： | 2023-07-25 |
| 发明（设计）人： | 陈英杰;余美俪;罗幼岚 | 申请（专利权）人： | 瑞昱半导体股份有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/3315 | 分类号： | G06F30/3315 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 | 代理人： | 梁丽超 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明公开一种用于静态时序分析的余量校正方法及余量校正系统。余量校正方法包括：测量具有目标电路的待测芯片上的多个晶粒，以得到性能数据；取得用于模拟该些晶粒的性能的模拟数据；执行静态时序分析工具取得时序分析结果；统计时序分析结果以得到模拟制程参数；统计性能数据以得到测量制程参数；建立统计模型，其定义余量为测量制程参数与模拟制程参数之间的差值；将时序分析结果及测量制程参数代入统计模型，并执行模型拟合演算法，以针对目标模型进行拟合得到余量；以及取得校正后时序分析结果。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 静态 时序 分析 余量 校正 方法 系统 | ||
【主权项】：
暂无信息
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