[发明专利]一种高效离化的离子注入方法在审
申请号: | 202210033045.3 | 申请日: | 2022-01-12 |
公开(公告)号: | CN114540783A | 公开(公告)日: | 2022-05-27 |
发明(设计)人: | 郎文昌;钱琦嘉;蒋慧珍;郭景燕;林振宇;陈盛旭;赵涣波;刘艳杰 | 申请(专利权)人: | 温州瑞明工业股份有限公司 |
主分类号: | C23C14/48 | 分类号: | C23C14/48;C23C14/35;C23C14/46;C23C14/14;H01J37/08 |
代理公司: | 温州名创知识产权代理有限公司 33258 | 代理人: | 朱海晓 |
地址: | 325000 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种高效离化的离子注入方法,属于离子注入技术领域,本发明中电子发生装置产生的电子与通入气体碰撞,产生气体离子轰击曲面靶材产生金属靶材原子和离子,带正电的金属离子在电磁场的作用下导向离子引出组件形成离子束进入到质量分析装置,再通过质量分析装置对离子束进行提纯,然后由加速管进行加速导入聚焦系统,之后通过偏转扫描系统对工作靶室内存放的工件进行离子注入,而绝大多数不带电的颗粒保留在溅射区,进一步与气体离子碰撞形成带正电的金属离子,本发明既能大大减少沉积区域的颗粒数量,同时不影响沉积速度,又增加了金属离子与靶材接触面积,极大的提高了粒子的离化率,可获得优质涂层。 | ||
搜索关键词: | 一种 高效 离子 注入 方法 | ||
【主权项】:
暂无信息
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于温州瑞明工业股份有限公司,未经温州瑞明工业股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/202210033045.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:图像处理方法、智能终端及存储介质
- 下一篇:一种结合磁控溅射的离子注入方法
- 同类专利
- 专利分类