[发明专利]一种基于激光直写光刻技术的微棱镜阵列制造方法在审
| 申请号： | 202210024212.8 | 申请日： | 2022-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN114325902A | 公开（公告）日： | 2022-04-12 |
| 发明（设计）人： | 栾世奕;桂成群;宋毅;薛兆丰 | 申请（专利权）人： | 矽万（上海）半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | G02B5/04 | 分类号： | G02B5/04;G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海远同律师事务所 31307 | 代理人： | 丁利华 |
| 地址： | 200131 上海市浦东新区自由*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提出了一种基于激光直写光刻技术的微棱镜阵列制造方法，包括以下步骤：步骤a：选择硅片作为衬底；步骤b：在硅衬底上旋涂光刻胶，并前烘；步骤c：将微棱镜阵列的灰度图输入激光直写设备，利用激光直写光刻技术对所述光刻胶进行曝光；步骤d：运用显影液对曝光后的光刻胶进行显影，获得光刻胶微棱镜阵列；步骤e：在所述光刻胶微棱镜阵列上旋涂材料并烘烤；步骤f：对所述材料进行脱模，获得期望的微棱镜阵列。本发明使用激光直写光刻技术可以有效地制作出具有期望尺寸的微棱镜阵列，生产灵活，大大提高了产品的性能。以及，本发明使用光刻胶作为转运模板，可以有效地对光刻胶模板上的产品进行剥离，较为完整地保存二次转运模板。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 激光 光刻 技术 棱镜 阵列 制造 方法 | ||
【主权项】：
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