[发明专利]用于改善对浮雕前体曝光的装置和方法在审
| 申请号： | 202180083672.1 | 申请日： | 2021-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN116940898A | 公开（公告）日： | 2023-10-24 |
| 发明（设计）人： | M·塔特;约翰·韦尔瓦埃克;M·拜尔 | 申请（专利权）人： | 恩熙思德国有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人： | 姜晓霞;杨明钊 |
| 地址： | 德国维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 用于曝光浮雕前体的方法，使用第一光源来曝光浮雕前体的第一侧，在一个或更多个第二曝光步骤的一个或更多个第二曝光周期期间使用可移动第二光源来曝光浮雕前体的与第一侧相对的第二侧，所述方法包括以下步骤：通过操作者界面接收代表第一曝光周期的至少一个第一特征和/或代表一个或更多个第二曝光周期的至少一个第二特征，基于至少一个第一特征和/或至少一个第二特征来确定第一光源和第二光源的操作序列，所述序列使得所述一个或更多个第二曝光周期中的每一个与第一曝光周期完全重叠或者不与第一曝光周期重叠。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 改善 浮雕 曝光 装置 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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