[发明专利]基于从衍射结构产生高阶谐波的量测设备和量测方法在审
| 申请号： | 202180079048.4 | 申请日： | 2021-10-12 |
| 公开（公告）号： | CN116490766A | 公开（公告）日： | 2023-07-25 |
| 发明（设计）人： | 彼得·迈克尔·克劳斯;S·D·C·罗斯卡门阿丁;菲律浦·坎皮;张庄严;P·W·斯摩奥伦堡;林楠;斯特凡·米歇尔·维特;A·J·登鲍埃夫 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G01N21/47 | 分类号： | G01N21/47 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 毕杨 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 披露了用于测量衬底上的衍射结构的量测设备和方法。所述量测设备包括：辐射源，所述辐射源能够操作以提供第一辐射以用于激发所述衍射结构，使得从所述衍射结构和/或衬底产生高阶谐波的第二辐射；以及检测装置，所述检测装置能够操作以检测所述第二辐射，所述第二辐射的至少一部分已经由所述衍射结构衍射。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 衍射 结构 产生 谐波 设备 方法 | ||
【主权项】：
暂无信息
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