[发明专利]形成电化学存储装置的功能层的方法、涂覆装置和制剂在审
| 申请号： | 202180055073.9 | 申请日： | 2021-07-22 |
| 公开（公告）号： | CN116569371A | 公开（公告）日： | 2023-08-08 |
| 发明（设计）人： | V·伍德;P·巴德 | 申请（专利权）人： | 苏黎世联邦理工学院 |
| 主分类号： | H01M10/052 | 分类号： | H01M10/052 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 王冉 |
| 地址： | 瑞士*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于产生电化学存储装置的功能层(110、120、130)的方法，包括：在涂覆装置(1)的第一储存器(10)中提供第一制剂(P1)，在所述涂覆装置(1)的第二储存器(20)中提供第二制剂(P2)，将所述涂覆装置(1)放置在基底(200)上方，并沿着涂覆方向(C)相对于基底(200)移动所述涂覆装置(1)，通过涂覆装置(1)的第一狭槽(11)将第一制剂(P1)从第一储存器(10)分配到基底(200)的涂覆表面(210)上，其中第一狭槽(11)沿着垂直于涂覆方向(C)且平行于涂覆表面(210)的横向轴线(L)延伸，并且同时通过涂覆装置(1)的第二狭槽(21)将第二制剂(P2)从第二储存器(20)分配到基底(200)上，其中第一制剂(P1)和第二制剂(P3)在涂覆装置(1)和基底(200)之间形成幕帘(310、320)，并且其中电化学存储装置的第一功能层(110)由第一制剂(P1)形成在涂覆表面(210)上，并且电化学存储装置的第二功能层(120)同时由第二制剂(P2)形成在第一功能层(110)上。本发明还涉及用于产生电化学存储装置的功能层(110、120、130)的涂覆装置(1)和制剂(P1、P2、P3、P4)。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 电化学 存储 装置 功能 方法 制剂 | ||
【主权项】：
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