[发明专利]显示不均匀性校正在审
| 申请号： | 202180051379.7 | 申请日： | 2021-07-30 |
| 公开（公告）号： | CN115918065A | 公开（公告）日： | 2023-04-04 |
| 发明（设计）人： | 爱德华·巴克利;迈克尔·易 | 申请（专利权）人： | 元平台技术有限公司 |
| 主分类号： | H04N9/31 | 分类号： | H04N9/31 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 于宁娜 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种系统适于：访问(910)与图像中的第一颜色分量和第一像素相关联的第一掩模及与该图像中的第二颜色分量和第二像素相关联的第二掩模；访问(920)包含第一像素的第一像素区域中的、第一颜色分量的第一分量值和包含第二像素的第二像素区域中的、第二颜色分量的第二分量值；使用第一掩模修改第一分量值及使用第二掩模修改第二分量值(930)；以及使(940)修改后的第一分量值和修改后的第二分量值由第一颜色分量的发光元件和第二颜色分量的发光元件显示。第一掩膜和第二掩模可基于第一发光元件和第二发光元件的相对位置生成。 | ||
| 搜索关键词： | 显示 不均匀 校正 | ||
【主权项】：
暂无信息
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