[发明专利]分层降阶矩阵生成装置在审
| 申请号： | 202180026456.3 | 申请日： | 2021-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN115461739A | 公开（公告）日： | 2022-12-09 |
| 发明（设计）人： | 宫本明靖;宫崎泰三 | 申请（专利权）人： | 株式会社日立制作所 |
| 主分类号： | G06F17/16 | 分类号： | G06F17/16;G01L1/00 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;牛孝灵 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在进行基于模型的开发时，有时会将处理对象分解为局部结构。此时，如果各局部结构的自由度为大规模，则需要庞大的计算时间和大量的计算机资源。本发明提供一种分层降阶矩阵生成装置(600)，生成用于对物理对象进行数值分析的分层降阶矩阵，其包括：存储部(62)，其存储表示所述物理对象的特性的物理对象数据；和运算部(61)，其对所述物理对象数据的模型生成分层降阶矩阵，所述运算部(61)将所述整体结构分割为多个局部结构，并且使用分割得到的多个局部结构的每一个中的固有模式和静态模式来计算所述降阶矩阵。 | ||
| 搜索关键词： | 分层 矩阵 生成 装置 | ||
【主权项】：
暂无信息
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