[发明专利]感光化射线性或感放射线性树脂组合物、图案形成方法、抗蚀剂膜及电子器件的制造方法在审
| 申请号： | 202180019877.3 | 申请日： | 2021-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN115244464A | 公开（公告）日： | 2022-10-25 |
| 发明（设计）人： | 牛山爱菜;小岛雅史;后藤研由;白川三千纮 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/004 | 分类号： | G03F7/004;C07C309/17;C07C381/12;C08F220/26;G03F7/038;G03F7/039 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 薛海蛟 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供一种能够获得LWR性能优异的图案的感光化射线性或感放射线性树脂组合物。并且，提供一种与上述感光化射线性或感放射线性树脂组合物相关的抗蚀剂膜、图案形成方法及电子器件的制造方法。感光化射线性或感放射线性树脂组合物包含：包含锍阳离子的盐，所述锍阳离子具有被含有酸分解性基团的基团取代的芳基且具有至少3个氟原子；及树脂，其通过酸的作用进行分解而极性增大，含有酸分解性基团的基团包含通过酸的作用进行分解而极性增大的基团，含有酸分解性基团的基团不包含氟原子。 | ||
| 搜索关键词： | 感光 射线 放射 线性 树脂 组合 图案 形成 方法 抗蚀剂膜 电子器件 制造 | ||
【主权项】：
暂无信息
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